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溅射气压对FeCoSiB 非晶薄膜表面形貌及磁特性的影响  
溅射气压对FeCoSiB 非晶薄膜表面形貌及磁特性的影响
资料类型: PDF文件
关键词: fecosib  非晶薄膜  溅射气压  表面形貌  矫顽力  剩磁  
资料大小: 360K
所属学科: 分子表征
来源: 2007年第六届中国功能材料及其应用学术会议暨2007国际功能材料专题论坛论文集(11.15-11.19,武汉)
简介:
利用磁控溅射的方法,在玻璃基片上制备了FeCoSiB非晶薄膜,研究了溅射Ar气压强对薄膜表面形貌及磁特性的影响。结果表明,薄膜的表面形貌显著依赖于Ar气压强,随着Ar压强的增加,薄膜表面颗粒增大,粗糙度增加并形成柱状微结构。Ar气压强对薄膜磁特性有显著的影响,随Ar压强增加,薄膜的矫顽力增加,而剩磁则呈下降趋势。从薄膜的磁滞回线、矫顽力以及剩磁随溅射气压的变化规律可知,溅射气压较小时制备的薄膜软磁性能较好。
作者: 汤如俊,谢巧英,彭斌,张万里,张文旭,蒋洪川
上传时间: 2008-08-20 15:29:51
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